Согласно сообщениям средств массовой информации, производственное предприятие «Отраслевые решения» в скором времени станет обладателем первой российской литографической установки. Представители группы компаний «Элемент» раскрыли технические характеристики нового устройства в интервью изданию CNews: проектная топологическая норма изготавливаемых микросхем составит 350 нанометров.
Производимые компоненты найдут применение в создании электронной элементной базы для различных отраслей. Среди основных направлений использования выделяются силовая электроника, автомобилестроение и промышленная автоматизация.
Технические параметры установки включают рабочую область размером 22 на 22 миллиметра. Оборудование рассчитано на обработку кремниевых пластин двухсотмиллиметрового диаметра. Функционирование системы осуществляется на длине волны 365 нанометров.
Параллельно специалисты занимаются созданием более совершенной модели литографического оборудования. Следующее поколение установок будет обладать разрешающей способностью 130 нанометров. Информация о планируемых датах начала серийного производства данной техники на текущий момент отсутствует.
Источник:
4PDA